離子研磨設(shè)備是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復(fù)合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。
 

　　離子研磨設(shè)備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級(jí)CCD顯微鏡，可以準(zhǔn)確地把樣品定位在幾個(gè)微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動(dòng)控制樣品搖擺，以避免產(chǎn)生表面劃痕。由于離子束水平入射、氬離子不會(huì)滲入樣品表面。
 

　　由于機(jī)械加工導(dǎo)致的樣品表層邊緣遭到破壞且所積累的殘余應(yīng)力無法得到釋放，終造成無法獲得樣品表層納米梯度強(qiáng)化層真實(shí)精準(zhǔn)的原位力學(xué)性能。離子研磨系統(tǒng)可以無應(yīng)力的去除樣品表面層，加工出光滑的鏡面。兼容平面和截面兩種加工方式，為相關(guān)檢測(cè)的樣品制備提供了為有效的解決方案。
 

　　離子研磨技術(shù)是利用通過電場(chǎng)加速過的離子轟擊樣品表面，在樣品表面產(chǎn)生濺射效應(yīng)，由此制備尺度為毫米級(jí)別的平滑表面的研磨方法。氬氣屬于惰性氣體，基本不會(huì)和樣品發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，因此通常我們采用Ar作為離子源轟擊樣品。